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在腦內植入晶片看似危險，卻有效改善中風病人的情況。
德國《商報》日前報道，德國醫生正在採用一種在腦皮層放置電極的刺激法治療中風患者。
漢堡—埃彭多夫大學醫院目前採用了美國北方之星神經科技公司開發的一種晶片，腦刺激以大腦的外層為目標，因為大量神經功能在這裡產生。為此，醫生借助侵入性極低的手術將一枚郵票大小的電極，放到病人的大腦皮層。隨後晶片發出短速的電子脈衝，而節奏的快慢由此前植入胸腔的儀器控制。
這種腦皮層刺激法在中風患者進行物理治療的同時使用。研究者希望通過這種方式，推動其他腦細胞擔負起在中風期間壞死細胞的功能。
北方之星神經科技公司對32名中風患者進行兩項腦皮層刺激臨床研究結果顯示，即使在中風已經很久的情況下，腦皮層刺激法結合物理治療明顯改善了手或胳膊的運動機能。 （許森）
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