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韓國政府相關人士前日透露，警方調查三星電子華城芯片工廠劇毒氣體氫氟酸洩漏事故時發現，工廠將充斥室內的氫氟酸利用排風機等向廠外排放。但三星聲稱，事故發生在密閉的潔淨廠房裡，氫氟酸沒洩漏到外部。
消息人士稱：「警方分析工廠的監控錄像，發現氫氟酸毒氣洩漏到工廠外部，環境部正分析是否違法。另一政府消息人士表示，照片顯示疑似三星防災部的員工，利用大型排風機將瀰漫室內的氫氟酸吹往出口。
在華城工廠半徑2公里範圍內住有數萬名居民，消息人士稱，部分居民可能短暫受氫氟酸影響。環境部表示，事故發生約18小時後，在三星工廠外部3個地點檢測大氣層的氫氟酸濃度，但未有檢測到。 ■韓國《朝鮮日報》
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